Retraction Note: Large-Area Semiconducting Graphene Nanomesh Tailored by Interferometric Lithography

Alireza Kazemi; Xiang He; Seyedhamidreza Alaie; Javad Ghasemi; Noel Mayur Dawson; Francesca Cavallo; Terefe G. Habteyes; Steven R. J. Brueck; Sanjay Krishna

doi:10.1038/s41598-026-66975-3

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Editor's Note: this Article has been retracted; the Retraction Note is available at https://doi.org/10.1038/s41598-021-84101-3 .

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Publikationsdaten

Autor:innen: Alireza Kazemi, Xiang He, Seyedhamidreza Alaie, Javad Ghasemi, Noel Mayur Dawson, Francesca Cavallo, Terefe G. Habteyes, Steven R. J. Brueck, Sanjay Krishna
Quelle: Scientific Reports
Publikation: 2021-01-01
Band / Ausgabe: Nicht angegeben
Seiten: Nicht angegeben
ISSN / ISBN: 2045-2322
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Alireza Kazemi, Xiang He, Seyedhamidreza Alaie, Javad Ghasemi, Noel Mayur Dawson, Francesca Cavallo, Terefe G. Habteyes, Steven R. J. Brueck, Sanjay Krishna (2021). Retraction Note: Large-Area Semiconducting Graphene Nanomesh Tailored by Interferometric Lithography. Scientific Reports. https://doi.org/10.1038/s41598-026-66975-3

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